K&F Concept Nano-C HMC CPL polarizacinis filtras 52mm
-9%
IŠPARDUOTA!
K&F Concept Nano-C HMC CPL 52mm yra poliarizacinis filtras, skirtas nepageidaujamiems atspindžiams šalinti ir nuotraukų kokybei gerinti. Filtras pagamintas iš japoniško optinio stiklo su 18 sluoksnių HMC danga ir tinka kraštovaizdžio fotografijai.
Pagrindinės savybės
- Suderinamas su 52 mm filtro sriegiu
- 18 sluoksnių HMC (Hard Multi-Coated) danga
- Pagamintas iš japoniško optinio stiklo
- Plonas 5 mm aliuminio rėmelis apsaugo nuo vinjetavimo
- Reguliavimo žiedas su neslidžia tekstūra
- Rinkinyje yra apsauginis dėklas
| Sriegio skersmuo | 52 mm |
|---|---|
| Danga | 18 sluoksnių HMC |
| Stiklo tipas | Japoniškas optinis stiklas |
| Rėmelio storis | 5 mm |
| Rėmelio medžiaga | Aliuminis |
| EAN | 6936069208894 |
|---|
Su kuriais objektyvais suderinamas šis filtras?
Filtras yra suderinamas su bet kuriuo objektyvu, turinčiu 52 mm filtro sriegį.
Ar šis filtras sukelia vinjetavimą naudojant plačiakampius objektyvus?
Ne, plonas 5 mm rėmelis yra sukurtas taip, kad išvengtų vinjetavimo efekto net ir naudojant plačiakampius objektyvus.
Kas įeina į pakuotę?
Pakuotėje yra K&F Concept Nano-C HMC CPL 52mm filtras ir apsauginis dėklas.
